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光学PS片材今后研发方向有哪几部分

发布时间:2019/9/7 15:59:54 来源: 浏览量:

光学PS片材是今后很多地方都会使用到的一种产品,这类的产品给我们的生活也带来了很多的便利,很多高科技的产品里面也都会使用到它,使用范围不是一般的广泛,可以说光学PS片材的研制已经得到了各个国家的广泛重视,但是现在还是存在缺点的,所以发展方向也是我们需要注意的,具体可以从下面的这几点来使用到。

浙江PS片材

(一) 提高耐热温度

目前PS片材透镜的耐热温度普遍偏低,尤其是最常用的PMMA热变形温度气为75~80℃,从而使应用范围受到限制,若其热变形温度能达到100~150℃,则很多领域可以应用PS片材透镜;

(二) 提高耐湿性

光学PS片材一般都有吸水性,极大地影响光学性能,因此,降低吸水率极为重要。

(三) 减少双折射

高分子材科都有双折射问题,它与摩尔量、形态结构、密度、成型时分子取向以及内应力的影响都有关系,一般光学材料要求无双折射,故期望研制出双折射小的PS片材。

(四) 研制高折射率PS片材

现在可用的光学PS片材材料的折射率都在1,6以下,品种少,选择余地小,而透镜的折射率越大,越易进行像差校正,越能提高透镜的性能,因此,今后要大力开展高折射率光学PS片材的研究,至少具有1.6以上。

(五) PS片材成型工艺的研究

不同的光学PS片材,成型透镜、非球面的方法不尽相同,特别是棱镜的成型,几乎很少研究。对于高精度零件的研究,几乎是空白。因此,今后应大力开展成型工艺的研究。


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